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最后更新2020-09-30 17:49
实验室研产-(Au,Si)/SiO2复合纳米颗粒薄膜
室温下用磁控溅射法在Si(111)衬底上生成Au/SiO2复合纳米颗粒膜,并分不同温度进行退火处理。1000℃退火时自组装生成空间分布均匀(直径约为70nm)的Au纳米点,从而用自组装生长方法制备了生长一维纳米材料的模板,然后,将Au催化剂模板在1100℃下退火处理,生成纳米线,SEM和TEM测试,制备的SiO2纳米线直径约为100nm,长度约为4μm,表面光滑,直且粗细均匀。
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