中文别名：氟化铒(III)
英文名称：Erbium(III) fluoride
英文别名：erbium(3+)，trifluoride
EINECS号：237-356-3
物性数据
性状：玫瑰色晶体。
密度（g/mL，25/4℃）：7.814
熔点（ºC）：1350
沸点（ºC，常压）：2200
自燃点或引燃温度（ºC）：不适用的
溶解性：不能溶解的
毒理学数据
急性毒性：主要的刺激性影响：
在皮肤上面：刺激皮肤和粘膜；
在眼睛上面：刺激的影响；没有已知的敏化影响。
生态学数据
通常对水是不危害的，若无政府许可，勿将材料排入周围环境。
分子结构数据
1、单一同位素质量：222.92551 Da
2、标称质量：223 Da
3、平均质量：224.2542 Da
计算化学数据
1.疏水参数计算参考值（XlogP）:无
2.氢键供体数量:0
3.氢键受体数量:3
4.可旋转化学键数量:0
5.互变异构体数量:无
6.拓扑分子极性表面积0
7.重原子数量:4
8.表面电荷:0
9.复杂度:0
10.同位素原子数量:0
11.确定原子立构中心数量:0
12.不确定原子立构中心数量:0
13.确定化学键立构中心数量:0
14.不确定化学键立构中心数量:0
15.共价键单元数量:4
性质与稳定性
常温常压下稳定。
避免的物料 水分/潮湿 还原剂。不溶于水和稀酸，难溶于氢氟酸，溶于硫酸。
贮存方法
常温密闭，阴凉通风干燥。
危险运输编码：UN 3288 6.1/PG 3
有毒
安全说明
S26：不慎与眼睛接触后，请立即用大量清水冲洗并征求医生意见。
S36/37/39：穿戴适当的防护服、手套和护目镜或面具。
S45：若发生事故或感不适，立即就医（可能的话，出示其标签）。
危险类别码
R23/24/25：吸入、皮肤接触及吞食有毒。
R32：与酸接触释放极高毒性气体。
氢氟酸沉淀-真空脱水法。将过量氢氟酸加到氯化铒或硝酸铒中，将其水溶液在水浴上蒸发、浓缩、冷却、结晶，即可制得三氟化铒的水合物。然后在真空中加热脱去结晶水。
氢氟酸浓度一般为40%～48%，它的消耗量是理论量的110%～120%。从水溶液中析出的氟化铒沉淀，必须用水充分洗涤，水洗采用倾泻法。过滤后的沉淀物在100～150℃下干燥，以脱去吸附水。得到只含结晶水的氟化物。为避免脱水中发生高温水解，生成氟氧化物ErOF，脱水过程需在真空中加热进行。真空度要高于0.133Pa，脱水温度不低于300℃。
另一种脱水方法就是将水合氟化铒放在干燥氟化氢气流中脱水，最终脱水温度为600～650℃。由于氢氟酸沉淀是在水溶液中进行的，故一般使用塑料反应容器，且脱水设备宜用耐高温腐蚀的材料，一般采用镍基合金材料制作。
氟化铒薄膜晶体
在空间光学、光通信、光谱仪、激光等大型光学系统中， 光学薄膜和器件的作用至关重要， 同时， 这些领域的应用也对光学薄膜的光学、物理、化学等性能提出了许多严格要求.比如， 在光学性能中， 要求镀膜材料有合适的光谱透光范围和折射率， 在透光范围内有足够小的吸收等.在机械和化学稳定性方面要求镀膜材料机械性能稳定， 对环境变化不敏感，内应力小，内部缺陷少。在目前使用的红外光学薄膜材料中能满足上述要求的材料有限， 特别是长波红外区， 性能稳定的低折射率薄膜材料更少.氟化钍(ThF4)光学性能优异， 机械性能好， 作为膜堆中的低折射率材料得到了广泛的应用。但是，ThF4的放射性对人和环境危害严重， 所以在滤光片的生产中受到越来越多的限制。因此， 寻找一种可以替代ThF4，却没有放射性的低折射率红外透光材料成了许多透光材料研究的主题。
稀土氟化物从真空紫外到远红外区都是很好的透光材料， 在真空紫外区， 稀土氟化物材料可作为紫外薄膜器件中的高折射率层， 而在远红外区， 稀土氟化物又可作为红外薄膜器件中的低折射率层。近年来， 稀土氟化物在真空紫外光学薄膜器件的应用引起了很多科研工作者的关注， 关于这方面的研究可见文献。在远红外区， 稀土氟化物材料， 如氟化钇(YF3)、氟化镧(LaF3)、氟化铈(CeF3)、氟化铪(HfF4)、氟化钕(NdF3)等材料的光学常数都有报道， 但是， 由于测量技术的限制，稀土氟化物材料从近红外到10μm处的折射率和消光系数数据非常匮乏， 在光学薄膜器件应用方面的报道则更少。氟化铒属于镧系中的重稀土氟化物， 近十年来的文献资料中， 氟化铒薄膜的红外光学常数以及在薄膜器件方面的研究还未见报道， 关于氟化铒的研究主要集中在含氟化铒的红外透光玻璃。
Pisarska 的研究表明， 含氟化铒的氟化物玻璃红外截至波长可达21.74 ±0.05μm， 远远超出其他氟化物玻璃的截至波长。该研究结果表明， 氟化铒是一种很有潜力的长波红外低折射率透光材料。本研究的主要目的是用洛伦兹模型计算氟化铒薄膜从2—10μm的光学常数， 并研究沉积工艺参数对薄膜的结构和光学性能的影响， 为氟化铒薄膜在空间红外光学薄膜器件的应用提供详实的设计数据。
热蒸发氟化铒薄膜的结构对红外光学性能的影响。随着沉积温度的升高， 氟化铒薄膜发生了从非晶到结晶的转变， 远红外区的透射光谱有明显的变化， 部分结晶的样品远红外振动模式和完全非晶的样品基本一致， 但是和完全结晶样品则没有相似之处。随着温度的升高， 薄膜的热应力增大， 薄膜的折射率有规律地减小， 消光系数也随之降低。结果发现250 ℃下沉积的氟化铒结晶薄膜具有最小的折射率和消光系数， 在10μm处分别为n =1.32，k =0.006。
光学镀膜、光纤掺杂、激光晶体、单晶原料、激光放大器。
